[发明专利]具有增大的有效通道宽度的晶体管在审

专利信息
申请号: 202011560339.9 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN113053931A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 文成烈;郑荣友 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L29/423
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘媛媛
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本申请案涉及具有增大的有效通道宽度的晶体管。图像传感器包含形成在衬底材料中的光电二极管及耦合到所述光电二极管的晶体管。所述晶体管具有形成在所述衬底材料中的沟槽结构,放置在所述衬底材料上的隔离层及放置在所述隔离层上且延伸到所述沟槽结构中的栅极。所述沟槽结构在通道宽度平面上具有多边形横截面,所述多边形横截面界定所述衬底材料的至少四个侧壁部分,此促成在所述通道宽度平面中测量的有效通道宽度,其比所述晶体管的平面通道宽度更宽。
搜索关键词: 具有 增大 有效 通道 宽度 晶体管
【主权项】:
暂无信息
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