[发明专利]半导体工艺设备

摘要

本发明提供一种半导体工艺设备，包括载气管、前驱物气源、进气管、工艺腔室、副产物检测器和管路清洁组件，其中，载气管用于将载气通入前驱物气源，前驱物气源用于产生前驱物气体，进气管用于将载气与前驱物气体的混合气体通入工艺腔室；副产物检测器设置在进气管路上，用于检测进气管中存在的前驱物气体的分解产物的浓度；管路清洁组件用于根据分解产物的浓度对进气管进行清洗。在本发明提供的半导体工艺设备中，管路清洁组件能够在颗粒物过多时及时对进气管进行清洗，以免进气管中的颗粒物随气体进入工艺腔室并附着在工艺腔室的内壁或承载盘等结构上，进而提高了半导体工艺的成膜质量，保证了产品良率和工艺一致性。