[发明专利]用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质在审
| 申请号： | 202011563493.1 | 申请日： | 2016-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN112650029A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·L·莱蒂格;约瑟夫·约翰逊;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种与在制造工艺中将无掩模光刻图案施加到基板的能力有关的图像校正应用。本文所述的实施方式涉及软件应用平台，所述软件应用平台校正基板上的不均匀图像图案。应用平台方法包括：禁用DMD中的至少一整列镜，其中DMD具有多个列，每个列具有多个镜；将基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；将基板的第二部分曝光于第二电磁辐射范围；并且重复将基板的第二部分曝光于第二范围，直至基板被完全地处理。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 校正 基板上 不均匀 图像 图案 方法 计算机系统 暂时性 计算机 可读 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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