[发明专利]有机膜形成材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及化合物在审
申请号: | 202011564357.4 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN113050373A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 郡大佑;中原贵佳;美谷岛祐介;野田和美 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/11;C07D307/88;C07D493/10;C07D311/82;C07D233/74;C07D239/62;C07D251/30;C07D487/04;C07C69/736 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及有机膜形成材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及化合物。本发明提供用以形成兼顾高程度的填埋特性/高程度的平坦化特性/和基板间的优良的密合力的有机膜的有机膜材料。提供含有下列通式(1)表示的化合物及有机溶剂的有机膜形成材料。 |
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搜索关键词: | 有机 形成 材料 方法 图案 以及 化合物 | ||
【主权项】:
暂无信息
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