[发明专利]半导体清洗设备中清洗液的温度控制方法及系统在审
申请号: | 202011565024.3 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN112650323A | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 魏洪磊 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | G05D23/20 | 分类号: | G05D23/20;H01L21/67 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;王婷 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请提供一种半导体清洗设备中清洗液的温度控制系统及方法,该系统包括加热器和温度控制器;加热器用于对清洗液进行加热;温度控制器与加热器连接,用于:判断向半导体清洗设备的工艺腔室中输送清洗液的传输管路中是否有清洗液,以及判断加热器的温度是否超出预设范围;并在传输管路中具有清洗液,且加热器的温度没有超出预设范围时,控制加热器将清洗液的温度加热至设定值。应用本申请,可以对不同温度梯度的清洗液进行有效安全的温度控制,使半导体清洗设备中清洗液的温度控制系统能够满足高精度、高安全等级的要求。 | ||
搜索关键词: | 半导体 清洗 设备 温度 控制 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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