[发明专利]一种双氧化组分铝蚀刻液、其制备方法与应用在审
| 申请号： | 202011573341.X | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112795924A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 童晨;吴海燕;韩成强;孙元;陈桂红 | 申请（专利权）人： | 昆山晶科微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/20 | 分类号： | C23F1/20;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明提供一种双氧化组分铝蚀刻液、其制备方法与应用。该双氧化组分铝蚀刻液包括第一氧化组分和第二氧化组分，其中，第一氧化组分和第二氧化组分质量比为1～2:3～5；第一氧化组分各组分及各组分含量为硝酸10～30wt％、醋酸盐缓冲溶液10～20wt％以及去离子水；第二氧化组分各组分以及各组分含量为双氧水10～30wt％、醋酸盐缓冲溶液10～20wt％、磷酸20～50wt％、阳离子表面活性剂10～20wt％以及去离子水。本申请提供的一种双氧化组分铝蚀刻液，能够快速蚀刻铝基金属，蚀刻速率约为 |
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| 搜索关键词： | 一种 氧化 组分 蚀刻 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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