[发明专利]一种离子源极片清洗装置在审

专利信息
申请号: 202011576219.8 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112657902A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 彭真;杨俊林 申请(专利权)人: 广州禾信仪器股份有限公司
主分类号: B08B1/04 分类号: B08B1/04;B08B13/00
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 杨勋
地址: 510000 广东省广州市高新技*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种离子源极片清洗装置,设计离子源极片清洗技术领域;该离子源极片清洗装置用于清洗质谱仪的离子源极片,质谱仪包括壳体,壳体内开设有过渡腔,过渡腔内安装有离子源极片和活动地设置于过渡腔内的样品靶托,样品靶托具有与过渡腔连通的安装腔,安装腔用于安装样品;该离子源极片清洗装置包括清洗靶,清洗靶包括靶座和清洗刷,靶座与样品靶托的尺寸适配,且用于安装于安装腔内,清洗刷设置于靶座,且至少部分伸出安装腔,且被配置为在样品靶托的带动下清洗离子源极片。该离子源极片清洗装置具有极片清洗便捷、清洗时间短、效率高、成本低,且无需拆卸离子源极片,能有效地保证仪器整体精密度的优点。
搜索关键词: 一种 离子源 清洗 装置
【主权项】:
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