[发明专利]一种离子源极片清洗装置在审
申请号: | 202011576219.8 | 申请日: | 2020-12-28 |
公开(公告)号: | CN112657902A | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 彭真;杨俊林 | 申请(专利权)人: | 广州禾信仪器股份有限公司 |
主分类号: | B08B1/04 | 分类号: | B08B1/04;B08B13/00 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 杨勋 |
地址: | 510000 广东省广州市高新技*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种离子源极片清洗装置,设计离子源极片清洗技术领域;该离子源极片清洗装置用于清洗质谱仪的离子源极片,质谱仪包括壳体,壳体内开设有过渡腔,过渡腔内安装有离子源极片和活动地设置于过渡腔内的样品靶托,样品靶托具有与过渡腔连通的安装腔,安装腔用于安装样品;该离子源极片清洗装置包括清洗靶,清洗靶包括靶座和清洗刷,靶座与样品靶托的尺寸适配,且用于安装于安装腔内,清洗刷设置于靶座,且至少部分伸出安装腔,且被配置为在样品靶托的带动下清洗离子源极片。该离子源极片清洗装置具有极片清洗便捷、清洗时间短、效率高、成本低,且无需拆卸离子源极片,能有效地保证仪器整体精密度的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子源 清洗 装置 | ||
【主权项】:
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