[发明专利]样品处理装置的局部真空保持装置在审
| 申请号： | 202011580938.7 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114649175A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 芮世熙;郑流淙;成明俊;安希浚 | 申请（专利权）人： | 灿美工程股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/18 | 分类号： | H01J37/18;H01J37/28 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国京畿道龙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种样品处理装置的局部真空保持装置，更加详细地，涉及一种样品处理装置的局部真空保持装置，其为了观察或者加工样品而产生带电粒子，在向样品照射的路径上形成孔隙，从而可以提高向样品传输带电粒子的效率，而且能够在样品周围形成局部真空，从而能够防止带电粒子的散射以及用于构成图像的二次电子等的消失，为了形成以及强化局部真空，可以通过双重的局部真空保持结构提高局部真空的有效性，为了有效保持真空，适当调整气体吸入和惰性气体的排放压力。 | ||
| 搜索关键词： | 样品 处理 装置 局部 真空 保持 | ||
【主权项】：
暂无信息
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