[发明专利]一种等离子体处理装置气体供应系统在审
| 申请号： | 202011586160.0 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN114688457A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 马冬叶;连增迪;陈煌琳 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D1/04 | 分类号： | F17D1/04;F17D1/20;F17D3/01;F16L53/30;F16L55/04;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种等离子体处理装置气体供应系统，包括歧管、位于歧管支路上的控制箱和位于歧管干路上的调节箱，利用调节箱的物态变化稳定气体管路中的气体压力。借助不同规格的存气罐，对管路中气体流量的大幅变化起到缓冲作用。在管路外壁还设置有加热装置，防止低压气体的液化导致的堵塞。同时将干路的内径增加，也起到了一定的缓冲作用。该系统可以提供稳定的气体压力平衡，抗扰能力突出，对于持续保持等离子体反应时气体的比例具有显著效果，此外，相比从厂务端单独向反应腔接通输气管线，本发明的气体供应系统节省了成本，降低了厂务端的管路占地空间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 气体 供应 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司，未经中微半导体设备（上海）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011586160.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
