[发明专利]一种镀制具有偏光效应薄膜的方法有效
| 申请号： | 202011588950.2 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112746245B | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 冯晋阳;孙玉娜;雷堃;赵修建;马晓 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/06;C23C14/58;B22F9/20;B22F1/054;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/28;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人： | 唐正玉 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种镀制具有偏光效应薄膜的方法。该方法首先，在有机或无机的基板表面镀制一层卤化银AgX薄膜，然后将镀膜后的有机或无机的基板放置于光栅掩模板下，在梯度电场的辅助作用下进行曝光处理，基板表面膜层中的卤化银AgX颗粒还原成金属纳米银，最终在基板表层形成沿着光栅定向排布的金属纳米银线栅微结构，所述AgX为AgCl、AgI或AgBr。纳米银线栅之间间隔取决于光栅掩模板的间隔，间隔从100nm‑2um进行调整，同时偏振光响应的光波段从可见光‑近红外‑红外光段变化。本发明方法具有可操作性强，制造的偏光片消光比高、好的化学稳定性，偏光响应波长可调以及基板材料选择自由等优点，可以用于光学传感器、光隔离器等光学器件的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 偏光 效应 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学，未经武汉理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011588950.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
