[发明专利]一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统在审
| 申请号： | 202011589978.8 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112599400A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 宋大猛;金南国;林保璋;姜洪中 | 申请（专利权）人： | 盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人： | 俞晨波 |
| 地址： | 315100 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体干法刻蚀设备腔体水汽含量报警系统，包括半导体干法刻蚀设备和安装于半导体干法刻蚀设备上的水汽含量报警系统，水汽含量报警系统按照检测数据传输的过程依次设置有水汽检测装置、水汽检测计算机、继电器、蜂鸣器和工厂网络系统，水汽检测装置与半导体干法刻蚀设备之间连接有管道，管道上安装有手动阀，水汽检测装置由离子源、四级杆质量过滤器和检测器组成，离子源位于管道一侧，四级杆质量过滤器包括对称设置的两组挡板和位于挡板内部的四级杆。本发明设计的水汽检测装置实时监控干法刻蚀设备的腔体水汽状态，当超标时可以通知半导体工作人员及时处理生产设备，这样能够避免产品的报废，达到提升产品良率的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 刻蚀 设备 水汽 含量 报警 系统 | ||
【主权项】：
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