[发明专利]应用于管式镀膜设备的生产工艺在审

专利信息
申请号: 202011590655.0 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN112795903A 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 戴虹;黄志强;王祥;胡海明;汤亮才;刘锋 申请(专利权)人: 理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/50
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 201620 上海市松*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种应用于管式镀膜设备的生产工艺,包括:通过沉积控制装置对基板进行沉积处理,通过清洗控制装置对待清洗载具进行气相清洗处理,以及所述气相清洗处理结束后,通过饱和控制装置对清洗载具进行饱和处理。本发明中通过所述传输装置将所述待清洗载具输送至所述管式清洗腔体后,通过所述清洗控制装置对所述待清洗载具进行气相清洗处理,以得到清洗载具;所述气相清洗处理结束后,通过所述传输装置将所述清洗载具输送至所述管式饱和腔体后,通过所述饱和控制装置对所述清洗载具进行饱和处理,无需拆装所述待清洗载具,从而进一步提高了生产效率。
搜索关键词: 应用于 镀膜 设备 生产工艺
【主权项】:
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