[发明专利]应用于管式镀膜设备的生产工艺在审
申请号: | 202011590655.0 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN112795903A | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 戴虹;黄志强;王祥;胡海明;汤亮才;刘锋 | 申请(专利权)人: | 理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/50 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201620 上海市松*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种应用于管式镀膜设备的生产工艺,包括:通过沉积控制装置对基板进行沉积处理,通过清洗控制装置对待清洗载具进行气相清洗处理,以及所述气相清洗处理结束后,通过饱和控制装置对清洗载具进行饱和处理。本发明中通过所述传输装置将所述待清洗载具输送至所述管式清洗腔体后,通过所述清洗控制装置对所述待清洗载具进行气相清洗处理,以得到清洗载具;所述气相清洗处理结束后,通过所述传输装置将所述清洗载具输送至所述管式饱和腔体后,通过所述饱和控制装置对所述清洗载具进行饱和处理,无需拆装所述待清洗载具,从而进一步提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 应用于 镀膜 设备 生产工艺 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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