[发明专利]一种用于圆柱靶的测量装置及测量方法在审
申请号: | 202011594035.4 | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN112731229A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 唐智;徐长亮 | 申请(专利权)人: | 纳峰真空镀膜(上海)有限公司 |
主分类号: | G01R33/10 | 分类号: | G01R33/10;G01R33/12;G01B11/27;G01B11/00;G01S17/42 |
代理公司: | 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 201700 上海市青浦区青*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于圆柱靶的测量装置,包括:支撑机构,其被配置为能够提供使圆柱靶保持水平的可转动支撑;第一驱动模组,其被配置为能够驱动使所述圆柱靶在所述支撑机构上作轴向转动;第二驱动模组,其被配置为能够携带检测单元作相对于所述圆柱靶的多轴运动,以对所述圆柱靶进行测量。本发明能够快速判断出圆柱靶的外观尺寸及磁场强度是否合格,并能对圆柱靶的磁场强度分布作出准确的立体反映,采集的数据稳定,采集数据多,数据准确,适于推广。本发明还公开了一种用于圆柱靶的测量方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 圆柱 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳峰真空镀膜(上海)有限公司,未经纳峰真空镀膜(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011594035.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种内螺纹塑料件加工模具
- 下一篇:一种煤清洁燃烧技术高效节能减排系统