[发明专利]一种基座组件以及等离子体处理设备在审
申请号: | 202011596786.X | 申请日: | 2020-12-29 |
公开(公告)号: | CN114695044A | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 伊凡·比久科夫;苏英杰;叶如彬 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 徐雯琼;张静洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于等离子体处理设备的基座组件,包括设置在基座组件中的多个声发射传感器。声发射传感器能够通过声学传播检测并定位微弧放电现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 基座 组件 以及 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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