[发明专利]一种高致密涂层的复合制备方法

摘要

本发明公开了一种高致密涂层的复合制备方法，采用原子层沉积和化学气相沉积交替制备的方式完成高致密涂层的制备，本发明利用原子层沉积涂层的高致密性，实现对化学气相沉积涂层中裂纹、微孔等缺陷的阻隔，防止各类缺陷的遗传和发展，使涂层具有很好的阻隔性能，同时，克服了原子层沉积效率低的缺点。该方法可用于对涂层致密性具有高要求且涂层厚度较大的涂层制备。解决目前单纯采用化学气相沉积技术制备的高致密涂层因缺陷导致失效的难题。