[发明专利]耐腐蚀的钕铁硼磁体及表面处理方法和羟基化合物的用途有效

专利信息
申请号: 202011604230.0 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112786301B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 张雅文;胡占江;冀平;白继华;张明鑫;董义;袁易;陈雅;袁文杰 申请(专利权)人: 包头天和磁材科技股份有限公司
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;H01F1/057
代理公司: 北京悦成知识产权代理事务所(普通合伙) 11527 代理人: 樊耀峰;安平
地址: 014030 内蒙古自治区包头*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明公开了耐腐蚀的钕铁硼磁体及表面处理方法和羟基化合物的用途。所述羟基化合物含有C2~C15的烃基,其能够提高钕铁硼磁体的耐腐蚀性。
搜索关键词: 腐蚀 钕铁硼 磁体 表面 处理 方法 羟基 化合物 用途
【主权项】:
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