[发明专利]一种MOCVD装置在审
| 申请号： | 202011605274.5 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112609239A | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 蒋国文;贾晓龙;崔志强;孟锡俊;徐广源;曾一平 | 申请（专利权）人： | 北京中科优唯科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 张永辉 |
| 地址： | 100000 北京市顺*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种MOCVD装置，包括气流分布调节机构，气流分布调节机构包括：第一板，第一板包括由半径划分的多个第一区域和第二区域；第一区域内设置至少一个第一通风孔，第二区域内设置至少一个第二通风孔；由第一板中心径向向外，第一区域的通风面积逐渐增大，第二区域的通风面积逐渐减小；第二板，第二板包括第三通风孔和挡片，第二板相对于第一板在第一位置、第二位置之间转动；在第一位置，第三通风孔与第一通风孔连通，挡片挡住第二通风孔；在第二位置，第三通风孔与第二通风孔连通，挡片挡住第一通风孔。本发明的结构简单，能够快速调节托盘径向气流分布，保证生长材料的厚度均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 装置 | ||
【主权项】：
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