[发明专利]一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法在审
| 申请号： | 202011611068.5 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112684679A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 徐珍华;阮立锋;廖平强;朱卫华 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 | 代理人： | 赵立军;石辉 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双面数字化光刻系统上下图形对准的标定方法。所述方法包括下述步骤：步骤1、上光学系统(210)投射光线，在标定相机(413)中形成第一标定图形(601)，确定第一标定图形(601)在标定相机(413)成像的图像中的像素坐标(X1、Y1)；步骤2、下光学系统(310)投射光线，在标定相机(413)中形成第二标定图形(602)，确定第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)；步骤3、基于第一标定图形(601)的像素坐标(X1、Y1)、第二标定图形(602)的像素坐标(X2、Y2)，确定下光学系统(310)和上光学系统(210)的相对位置偏移。本发明的方法能够大大提高上下图形对准的标定精度，且操作简单，能够自动化操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 数字化 光刻 系统 上下 图形 对准 标定 方法 | ||
【主权项】：
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