[发明专利]一步磁控溅射沉积无机/有机交替混合结构超高阻隔膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011618401.5 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112813396A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 徐从康;周曼曼;郑晓宁;王洪祥 申请(专利权)人: 山东永聚医药科技有限公司;汕头大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/12;C23C14/56;H01L51/56;H01L51/52;H01L31/048;H01L31/18
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 赵真真
地址: 255400 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种一步磁控溅射沉积无机/有机交替混合结构超高阻隔膜的制备方法。尤其是在可弯曲的柔性基体上用无机物旋转靶材和有机物旋转靶材通过R2R一步法制备的超高阻隔膜,通过控制旋转靶材的配比和R2R工艺,制备了具有高阻水性能的柔性透明超高阻隔膜。WVTR:10‑6g/(m2·day);透光率大于90%。可满足OLED、QLED和薄膜太阳能电池等柔性电子器件的封装要求。
搜索关键词: 一步 磁控溅射 沉积 无机 有机 交替 混合结构 超高 阻隔 制备 方法
【主权项】:
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