[发明专利]一种电子束曝光机、调焦方法及装置在审

专利信息
申请号: 202011623770.3 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112731773A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 贺晓彬;李亭亭;唐波;刘金彪;李俊峰;杨涛 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种电子束曝光机、调焦方法及装置,通过增设光学聚焦测试装置,将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内,并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像,然后基于当前曝光单元对应的反射光图像,得到当前曝光单元的位置信息,进而根据该位置信息调整当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性,有利于减小束斑尺寸,提高电子束曝光的分辨率。
搜索关键词: 一种 电子束 曝光 调焦 方法 装置
【主权项】:
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