[发明专利]一种微纳光学器件制造方法在审

专利信息
申请号: 202011624409.2 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112731763A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 张亮;赵辉;张国伟 申请(专利权)人: 嘉兴驭光光电科技有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02B5/18
代理公司: 北京方可律师事务所 11828 代理人: 吴艳;郝东晖
地址: 314500 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请公开了一种微纳光学器件制造方法。该方法中将分别形成有不同微纳结构的基板进行切割和拼接,然后转印得到一体的模板,并利用该一体的模板通过微纳米压印进行复制生产。这样的微纳光学器件制造方法能够简单高效地实现双结构甚至乃至多结构微纳光学器件的批量生产,而且使得对于不同的微纳结构能够采用适宜的常规工艺来制造,有利于简化制造工艺,降低成本。
搜索关键词: 一种 光学 器件 制造 方法
【主权项】:
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