[发明专利]具有涂覆于圆柱形对称元件上的靶材料的基于等离子体的光源在审
| 申请号： | 202011625497.8 | 申请日： | 2016-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN112859533A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | A·库里岑;刘晔;O·霍德金 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及具有涂覆于圆柱形对称元件(例如，滚筒)的外表面上的靶材料(例如氙)的激光产生的等离子体光源。实施例包含可经优化以减少对所述滚筒的照射损坏的预脉冲布置及可用来减少对所述滚筒的照射损坏的脉冲修整单元。另外，揭示实施例，其中圆柱形对称元件的表面形成有具有大于1mm的凹槽深度的多个凹槽及聚焦激光束且建立照射位点以从所述靶材料产生等离子体的聚焦单元，其中所述照射位点远离凹槽表面部分以保护所述表面部分免于照射损坏。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 圆柱形 对称 元件 材料 基于 等离子体 光源 | ||
【主权项】：
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