[发明专利]镀膜装置及其承载座有效
| 申请号： | 202011627010.X | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112853316B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 郭月;刘春;刘子优;王卓;李景舒 | 申请（专利权）人： | 拓荆科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52;C23C16/44 |
| 代理公司： | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人： | 李丹 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭露一种镀膜装置，包含：一第一外壳，具有一顶部和一侧部；及一第二外壳，容置于该第一外壳中且至少部分自该第一外壳的顶部朝下扩散延伸，该第一外壳与该第二外壳之间定义一第一空间，该第二外壳定义一第二空间，该第一空间围绕该第二空间且两者不连通。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 装置 及其 承载 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
