[发明专利]一种具有自清洁功能的半导体清洗设备有效
| 申请号： | 202011627399.8 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112808670B | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 邓信甫;毛明军;刘大威;吴海华 | 申请（专利权）人： | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 党蕾 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有自清洁功能的半导体清洗设备，属于半导体技术领域，包括晶圆承载平台、第一升降机构、外罩、多个回收环、清洗液供应端和控制机构；外罩边沿设有第一喷嘴；回收环上倾斜设置有防溅板，防溅板上设有喷嘴模组，相邻防溅板之间形成腔室；控制机构根据清洗指令控制清洗液供应端提供清洗液，并控制第一升降机构升降以使第一喷嘴与其中一个防溅板持平，进而通过第一喷嘴清洗相应的腔室。本发明技术方案的有益效果在于：第一喷嘴能够对喷嘴模组喷射的盲区进行清洁，通过喷嘴模组和第一喷嘴进行双重清洁，通过第一喷嘴和第一升降机构进行分层清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 清洁 功能 半导体 清洗 设备 | ||
【主权项】：
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