[发明专利]一种自带聚光结构的微机电红外光源及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011631944.0 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112794280A 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 张洋;荆二荣;徐德辉 申请(专利权)人: 厦门烨映电子科技有限公司
主分类号: B81B7/02 分类号: B81B7/02;B81B7/00;B81C3/00;B81C1/00;G01N21/3504
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 361000 福建省厦门市中国(福建)自*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供一种自带聚光结构的微机电红外光源及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:形成第一结构层,自下而上依次包括衬底层、支撑层及黑体辐射层,衬底层中设有真空腔体,支撑层中设有通孔;形成第二结构层,其中设有聚光腔,聚光腔的内壁设有反射层;形成第三结构层,其包括滤光层;通过第一接合层键合第一、第二结构层,通过第二接合层键合第二、第三结构层,第二结构层位于第一、第三结构层之间,真空腔体、通孔及聚光腔依次连通,聚光腔的底部暴露出黑体辐射层,第三结构层封闭聚光腔的顶部开口。本发明中,聚光结构在芯片上直接集成,具有高集成度、低制造成本、高度一致性、良好封装气密性、更好的红外辐射效果的优势。
搜索关键词: 一种 聚光 结构 微机 红外 光源 及其 制备 方法
【主权项】:
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