[发明专利]一种半导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法在审
| 申请号： | 202011634981.7 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN112827376A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 张展;邓信甫;徐铭;陈佳炜 | 申请（专利权）人： | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B01F3/08 | 分类号： | B01F3/08;B01F15/00;B01F15/02;B01F15/04 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 杜冰云;周涛 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法，该方法通过在湿法清洗设备的进液端安装混酸装置，能够精确控制湿法清洗溶液中的混酸浓度，提高了发应性溶液的配比精度，同时也能大大提高反应性溶液的配比效率，解决了酸液混合过多或不足量造成的湿法工艺执行不稳定的问题，有效提高了湿法工艺的性能和洁净能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 湿法 清洗 溶液 中混酸 浓度 控制 方法 | ||
【主权项】：
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