[实用新型]一种防止旋转不平衡的石墨基座有效
申请号: | 202020026043.8 | 申请日: | 2020-01-07 |
公开(公告)号: | CN211570768U | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 蓝图;黄洪福 | 申请(专利权)人: | 深圳市志橙半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙) 44451 | 代理人: | 黎健任 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉气相沉积领域,特别涉及一种防止旋转不平衡的石墨基座。其包括旋转基座、安装槽、与销钉配合连接的卡槽,安装槽设置在旋转基座的中心位置并从旋转基座的上表面向底部延伸,安装槽的外侧周围均匀凸出设置有多个卡槽,卡槽从旋转基座的上表面向底部延伸,卡槽与安装槽连通。本石墨基座解决由于旋转过程中由于石墨基座单边受力,容易引起石墨基座旋转不平衡,从而影响产品生产的稳定性的问题,能有效降低石墨基座旋转不平衡导致产品报废的概率,显著提高薄膜均匀性以及质量,并有效延长石墨基座的使用周期。 | ||
搜索关键词: | 一种 防止 旋转 不平衡 石墨 基座 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的