[实用新型]一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统有效
| 申请号： | 202020035807.X | 申请日： | 2020-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN211318990U | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 张浩为;卫国;魏云飞 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于双台面激光直写曝光机的真空吸附控制系统，包括鼓风机、控制电路、自锁式按钮KEY1、自锁式按钮KEY2、电磁阀一和电磁阀二。控制电路包括交流接触器、热继电器和继电器。鼓风机的出气口分别与电磁阀一的进气口、电磁阀二的进气口相连，电磁阀一的出气口接曝光A台面的进气口，电磁阀二的出气口接曝光B台面的进气口。本实用新型不仅可以在双台面激光直写曝光机工作时打开鼓风机，在曝光机不工作时切断鼓风机电源，实现节能减排，还可以通过热继电器保护鼓风机，在鼓风机过载或过流时及时切断电源并报警，防止因鼓风机过热或电流过大而导致鼓风机烧坏，从而延长鼓风机的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 台面 激光 曝光 真空 吸附 控制系统 | ||
【主权项】：
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