[实用新型]一种掩膜板、显示面板及显示装置有效
申请号: | 202020040735.8 | 申请日: | 2020-01-09 |
公开(公告)号: | CN211043942U | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 马晓旭;李治朝 | 申请(专利权)人: | 昆山龙腾光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/54 | 分类号: | G03F1/54;G02F1/133;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 215301 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型实施例公开了一种掩膜板、显示面板及显示装置。该掩膜板包括显示区掩膜部和非显示区掩膜部;非显示区掩膜部围绕显示区掩膜部;其中,显示区掩膜部用于对显示面板的显示区进行掩膜,非显示区掩膜部用于对显示面板的非显示区进行掩膜;显示区掩膜部包括遮光部、透光部以及半透光部;非显示区掩膜部包括多个遮光条;遮光部呈网格状;透光部以及半透光部位于遮光部的网孔内;遮光部用于对显示面板的显示区的公共电极并联金属进行掩膜;透光部用于对显示面板的显示区的公共电极通孔进行掩膜。本实用新型实施例提供的掩膜板可以避免显示面板中显示区边缘的公共电极并联金属缺失的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 显示 面板 显示装置 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备