[实用新型]曝光平台和系统有效
| 申请号： | 202020081809.2 | 申请日： | 2020-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN211698584U | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 易伟华;张迅;郑芳平;徐彬彬;洪华俊 | 申请（专利权）人： | 江西沃格光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 熊文杰 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种曝光平台和系统，所述曝光平台应用于曝光系统，所述的曝光平台包括：载物台和降温通道，载物台用于放置待执行曝光工序的玻璃样品；降温通道，设置在所述载物台的底部，用于执行曝光工序时通入冷却水对所述载物台进行降温处理。本申请通过在放置玻璃样品的载物台上设置降温通道，在执行曝光工序时，若载物台被紫外线照射时环境温度高于温度阈值，则在降温通道通入冷却水给载物台降温，从而为曝光工序提供恒定的曝光温度，提升了曝光效果的同时保证了成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 平台 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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