[实用新型]原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置有效

专利信息
申请号: 202020089176.X 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN211856406U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 李颜;李润发;王传真;王玲玲;吴玉莲;杨小祥 申请(专利权)人: 南通励思仪电子科技有限公司
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00
代理公司: 佛山卓就专利代理事务所(普通合伙) 44490 代理人: 赵勇
地址: 226000 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及离子辐照分析技术领域,且公开了原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,包括底座,所述底座的顶部固定安装有支撑台,所述支撑台的顶部固定安装有摄像模块。该原位电子显微镜离子辐照损伤光学特征深度分布分析装置,通过对样品本体的调节,来确保离子光速聚焦在样品表面,通过第一电机的运行其输出轴的转动,带动螺纹杆进行旋转,通过联轴器的安装,使第一电机输出轴与螺纹杆之间的连接更为稳固,通过轴承的安装,使得螺纹杆转动的时候更加平稳,在其转动的过程中,螺纹套在其外表面向上进行移动,支杆带着限定杆和样品本体随着一起运行,来实现对样品本体的高度调节,达到了方便调节的目的。
搜索关键词: 原位 电子显微镜 离子 辐照 损伤 光学 特征 深度 分布 分析 装置
【主权项】:
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