[实用新型]掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构有效

专利信息
申请号: 202020102149.1 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN211546649U 公开(公告)日: 2020-09-22
发明(设计)人: 徐国华;王建强;吴蕴泽 申请(专利权)人: 合肥维信诺科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/20;H01L21/68
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 方晓燕
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。掩膜版包括掩膜本体。掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面,形成多个间隔设置的遮光部。至少一个遮光部具有设置于出光面的对位部。本申请提供的掩膜版可以在蒸镀工艺中,实现与待蒸镀像素基板的准确对位,并且使得掩膜版难以移动,遮光部可以更准确的实现材料的蒸镀。本申请提供的掩膜版还可以避免由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况造成的蒸镀像素偏移的问题。
搜索关键词: 掩膜版 待蒸镀 像素 机构
【主权项】:
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