[实用新型]掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构有效
申请号: | 202020102149.1 | 申请日: | 2020-01-16 |
公开(公告)号: | CN211546649U | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 徐国华;王建强;吴蕴泽 | 申请(专利权)人: | 合肥维信诺科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/20;H01L21/68 |
代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 方晓燕 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种掩膜版、待蒸镀像素基板和待蒸镀机构。掩膜版包括掩膜本体。掩膜本体具有相对设置的入光面和出光面,形成多个间隔设置的遮光部。至少一个遮光部具有设置于出光面的对位部。本申请提供的掩膜版可以在蒸镀工艺中,实现与待蒸镀像素基板的准确对位,并且使得掩膜版难以移动,遮光部可以更准确的实现材料的蒸镀。本申请提供的掩膜版还可以避免由于受到热辐射、重力、高斯强度不均一等情况造成的蒸镀像素偏移的问题。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 待蒸镀 像素 机构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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