[实用新型]一种铝基板真空曝光装置的结构有效
申请号: | 202020173158.X | 申请日: | 2020-02-15 |
公开(公告)号: | CN211454232U | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 江东红;曹克铎;吴志峰 | 申请(专利权)人: | 福建利德宝电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K1/05;H05K3/06 |
代理公司: | 北京云科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11483 | 代理人: | 张飙 |
地址: | 361000 福建省漳*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种铝基板真空曝光装置的结构,所述盖板底板的下表面设置有垫块,所述垫块的下表面设置有沉槽,所述沉槽的长度与所述垫块的长度相等,所述沉槽水平贯穿垫块的前后表面,所述垫块压在所述待曝光铝基板的背面将所述待曝光铝基板和菲林片压紧,抽真空时,底板在大气压力下弹性变形压向真空腔内,所述垫块下压将所述待曝光铝基板与菲林片之间的空气挤出,同时垫块与所述待曝光铝基板之间的空气经由沉槽被有效地抽走。 | ||
搜索关键词: | 一种 铝基板 真空 曝光 装置 结构 | ||
【主权项】:
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