[实用新型]一种铜粉表面气相沉积碳的装置有效
申请号: | 202020281789.3 | 申请日: | 2020-03-10 |
公开(公告)号: | CN211872080U | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 冯岳军;巨佳;陈立群;卞方宏;冉文强 | 申请(专利权)人: | 江阴电工合金股份有限公司;南京工程学院 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;B22F1/02 |
代理公司: | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 | 代理人: | 隋玲玲 |
地址: | 214423 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种铜粉表面气相沉积碳的装置,包括振动底座和密封工作筒体,所述密封工作筒体包括隔热板、铜粉进口、废气出口、废气出口挡板、甲烷进气口、气体流量计、铜粉缓释区、第一加热区、第二加热区、第三加热区、第四加热区、第五加热区、1000目振动筛、5000目振动筛、8000目振动筛、10000目振动筛、加热丝、加热丝盖板、复合材料沉降区、回收盘、隔热棉。本实用新型的铜粉表面气相沉积碳的装置结构新颖,使用灵活方便,能够使碳充分的沉积在铜的表面制得具有完整表面结构、高质量、缺陷较少的石墨烯薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的