[实用新型]一种蚀刻设备

摘要

本实用新型公布一种蚀刻设备，包括：蚀刻槽、上极板、下极板和可变电源，上极板和下极板分别设置在蚀刻槽的上下底面，蚀刻槽用于容置蚀刻液且内部用于放置待蚀刻基板，可变电源与上下极板连接，可变电源通过调节上极板和下极板的电压来控制蚀刻槽的蚀刻液中蚀刻出的离子在待蚀刻基板位置的浓度。上述技术方案通过上极板和下极板来调节电源的电压，实现区域性调节蚀刻出的离子在待蚀刻基板位置的浓度，进而改变蚀刻速度。具有如下优点，第一，可以改变待蚀刻基板中不同位置的蚀刻速率，优化待蚀刻基板的坡度角。第二，可以实现对蚀刻速率的精确控制，第三，可以延长蚀刻液的使用寿命。