[实用新型]一种单晶元件制备装置有效
| 申请号： | 202020386697.1 | 申请日： | 2020-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN212077190U | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 张辉 | 申请（专利权）人： | 合肥本源量子计算科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C30B1/06 | 分类号： | C30B1/06;C30B29/02;C30B30/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种单晶元件制备装置，包括：密闭壳体，还包括：电磁源模块，设置于所述密闭壳体外部，用于产生交变磁场；感应模块，设置于所述密闭壳体内部，用于感应所述交变磁场，产生热量；其中，所述感应模块内固定有用于通过高温退火生成所述单晶元件的多晶元件；所述电磁源模块沿着所述感应模块的延伸方向移动；温度测量模块，设置于所述电磁源模块上，用于测量所述感应模块对应所述电磁源模块移动位置处的局部温度，并发送所述感应模块的温度信号；控制模块，接收所述温度信号，并根据所述温度信号对所述电磁源模块的移动进行控制。通过所述温度测量模块对加热效果进行准确、高效的测试和反馈，提高制备成的单晶元件的效率和质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 元件 制备 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥本源量子计算科技有限责任公司，未经合肥本源量子计算科技有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202020386697.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种幼儿体检用防护设备
- 下一篇：食品沥水炒料一体化装置
