[实用新型]ALD加热炉有效
申请号: | 202020392352.7 | 申请日: | 2020-03-24 |
公开(公告)号: | CN213232487U | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 姜涛;李世磊;安锦湖 | 申请(专利权)人: | 无锡市正罡自动化设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 沃赵新 |
地址: | 214106 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种ALD加热炉,包括筒状腔体,筒状腔体的两端设置分别设置前炉门和后炉门,筒状腔体内部设置有导流腔,在前炉门处设置进气组件,所述进气组件包括一个导流腔门、外层均流板以及内层均流板,内腔门上与外层匀流板对应位置有凹陷,形成一个圆形的薄进气室。内、外层匀流板之间通过螺栓、垫片分开一定间隔,前炉门关闭状态下,内、外层匀流板与内腔体侧壁又形成一个方形进气室。内、外层匀流板上等距分步大小相同圆形气孔,内层匀流板孔径略小于外层匀流板,以便气流分散通过。通过均匀进气系统向衬底或其他反应基底均匀输送前驱体,从而使反应物快速覆盖衬底或上一原子层,有效提高材料生长的均匀性,使前驱体绝大部分用于成膜。 | ||
搜索关键词: | ald 加热炉 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的