[实用新型]一种用于超纯水制造的抛光系统有效
| 申请号： | 202020404008.5 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN212269739U | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 熊江磊;戎宇舟;周运财;马兴峰;章星异 | 申请（专利权）人： | 中国电子系统工程第二建设有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/08 | 分类号： | C02F9/08;C02F103/04 |
| 代理公司： | 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 | 代理人： | 张宁;顾吉云 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于超纯水制造的抛光系统，其可同时高效降低超纯水中的溶解氮和溶解氧浓度。其包括超纯水箱，所述超纯水箱与预处理系统和制成系统连接，所述超纯水箱通过超纯水泵顺次连接有换热器、TOC‑UV装置、增压泵、离子交换装置、脱气膜系统、终端超滤装置、超纯水使用点；所述脱气膜系统包括顺次连接的第一脱气膜装置和第二脱气膜装置，所述第一脱气膜装置采用氮气吹扫加抽真空的运行模式，所述第二脱气膜装置采用抽真空的运行模式。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 超纯水 制造 抛光 系统 | ||
【主权项】：
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