[实用新型]用于制备石墨托盘CVD-SiC涂层的水平悬挂式旋转装置有效
申请号: | 202020406948.8 | 申请日: | 2020-03-26 |
公开(公告)号: | CN212025452U | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 湖南兴晟新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;C23C16/458 |
代理公司: | 长沙轩荣专利代理有限公司 43235 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 412000 湖南省株洲市石峰区联诚*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种用于制备石墨托盘CVD‑SiC涂层的水平悬挂式旋转装置,包括:旋转组件设置有一大支撑旋转轴,大支撑旋转轴底部设置有一突出轴,大支撑旋转轴通过突出轴穿设在一炉底,突出轴穿过炉底固定设置在一炉外承力装置内;承载组件设置有一大承重板和四根支架,大承重板固定设置在大支撑旋转轴的上端,支架竖直设置在所述大承重板上,支架上设置有多层承重板,承重板的中心均开设有中心孔,中心孔内均穿设有一挂钩,每个挂钩的下端均挂设有石墨托盘,本装置结构稳定、使用便捷,涂层制备均匀且纯度高,并且装炉率高,合格率高,生产效率高,能够满足各行业MOCVD外延用的SiC涂层的石墨托盘、舟皿、工装等产品的生产需要。 | ||
搜索关键词: | 用于 制备 石墨 托盘 cvd sic 涂层 水平 悬挂 旋转 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的