[实用新型]一种气流分布装置及薄膜沉积设备

摘要

本实用新型实施例公开了一种气流分布装置及薄膜沉积设备，该气流分布装置包括：气体分散腔体；气体分散腔体具有进气口以及与进气口相对设置的孔径结构和/或分散体结构，孔径结构为气体分散盘且气体分散盘具有多个第一通孔；气体分散腔体用于通过孔径结构中第一通孔对进入的气体进行气流路径补偿，和/或，气体分散腔体用于通过分散体结构对进入的气体进行气流路径补偿。本实用新型实施例中，气体从进气口进入，经过孔径结构和/或分散体结构实现了气流路径补偿，提高了腔体内部气体流量分布的均匀性，进而提高了后续镀膜工艺的均匀性。