[实用新型]一种低电容瞬态电压抑制器有效

专利信息
申请号: 202020431718.7 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN212434623U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 蒋骞苑;赵德益;赵志方;吕海凤;张啸;王允;李亚文 申请(专利权)人: 上海维安半导体有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/8222
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 董梅
地址: 201202 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种低电容瞬态电压抑制器,采用衬底硅片,在TVS器件结构基础上,在衬底与外延之间增加N+埋层,并通过深N+/浅N+区引出,或者,在衬底与外延之间增加P+埋层,并通过深P+/浅P+区引出。本实用新型与传统低容结构的TVS器件,在不增加硅片面积的情况下,通过增加电流导通面积,使抗浪涌及静电释放的能力得以大幅提升,满足高速信号传输端口的要求,可以应用在诸如网口、RJ45、无线局域网、笔记本电脑等设备中。
搜索关键词: 一种 电容 瞬态 电压 抑制器
【主权项】:
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