[实用新型]一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置有效
| 申请号： | 202020468469.9 | 申请日： | 2020-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN212497128U | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 谢启明;耿朝红;尹国良;张敬东;赵逸群;应常宇;胡忠 | 申请（专利权）人： | 云南北方驰宏光电有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00;F16B11/00 |
| 代理公司： | 北京东灵通专利代理事务所(普通合伙) 61242 | 代理人： | 韩战涛 |
| 地址： | 655000 *** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种高精度低形变的锗窗抛光上盘装置，涉及光学元件加工的技术领域，为解决现有技术中，锗窗抛光上盘方法存在的不能满足高精度锗窗的加工需要的技术问题，本实用新型的技术方案如下：包括粘接模、粘接剂、定位环及定位座；所述粘接剂为圆环结构，粘接于所述粘接模的一端面；所述定位环的周边具有翻边，中部开设有与粘接模形状相应的中心孔；所述定位座的表面设置限位环，所述限位环的形状与定位环的翻边形状相应，且与中心孔同轴；待抛光锗窗置于所述限位环内，所述定位环扣接于限位环的外部，所述粘接模具有粘接剂的一端依次穿过中心孔及限位环，通过所述粘接剂与锗窗固定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 形变 抛光 上盘 装置 | ||
【主权项】：
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