[实用新型]一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版有效
申请号: | 202020479419.0 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN211627998U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 吴杰明;侯天府;李成杰;程丽娜;李岩;张泽鹏 | 申请(专利权)人: | 信利(仁寿)高端显示科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/1339 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 刘春风 |
地址: | 620500 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于制作阵列基板上隔垫物的半色调掩膜版,所述阵列基板包括第一衬底基板、依次层叠设置在第一衬底基板上的薄膜晶体管阵列层和保护层,还包括通过半色调掩膜版形成的主隔垫物和辅隔垫物,所述主隔垫物和辅隔垫物对应形成在薄膜晶体管阵列层的上方,其中半色调掩膜版包括掩膜基板、设置在掩膜基板一侧的遮光层,所述遮光层包括全透孔和网格孔。实施本实用新型,利用网格孔阻挡光透过的量实现半透效果,可以节省现有技术中在半透区域先开全透孔再镀一层半透膜的工艺,有效节省了制作成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制作 阵列 基板上隔垫物 色调 掩膜版 | ||
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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