[实用新型]一种金属掩膜版的清洗装置有效
| 申请号： | 202020510458.2 | 申请日： | 2020-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN212610864U | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 钱超;吴建 | 申请（专利权）人： | 常州高光半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23G5/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 竞存;徐冬涛 |
| 地址： | 213311 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种金属掩膜版的清洗装置、清洗方法，涉及掩膜版清洗技术领域，包括等离子发生装置，所述金属掩膜版位于等离子发生装置内，等离子发生装置所产生的等离子体撞击金属掩膜版，使金属掩膜版表面的残留材料脱落，完成清洗，本实用新型清洗装置采用氩气作为媒介，利用等离子发生装置产生的等离子体对金属掩膜版，进行清洗，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的金属掩膜版损坏、浪费资源、人身健康损害和环境污染等问题，而且，真空等离子体清洗还可避免外部污染的引入，回收的OLED材料可以重复利用，极大地节约了源成本，清洗效果好，清洗效率高，符合绿色生产的理念，有利于大规模量产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掩膜版 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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