[实用新型]半导体单晶合成坩锅有效
申请号: | 202020520598.8 | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN211814720U | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 董家海;斯超波 | 申请(专利权)人: | 浙江诺华陶瓷有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;B08B9/087 |
代理公司: | 北京君恒知识产权代理有限公司 11466 | 代理人: | 余威 |
地址: | 322100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及冶炼设备技术领域,更具体的说是半导体单晶合成坩锅,可以自动清理坩埚的内壁与外壁。倾倒电机带动合成坩埚转动,将合成坩埚中的冶炼的熔化液倾倒出来,然后打开翻转油缸,翻转油缸顶起翻动连接板,使翻动连接板在垂直转动底座上转动,带动合成坩埚翻转起来,当合成坩埚内壁贴合在内壁清理毛刷上时,清理电机带动转动半圆板转动,转动半圆板带动内壁清理毛刷旋转,并对合成坩埚内壁进行清理,同时打开伸缩配合气缸,伸缩配合气缸带动电机安装架和旋转电机靠近合成坩埚,并使外壁贴合半圆板带动多个外壁清理刷贴合在合成坩埚的外壁上,旋转电机带动外壁贴合半圆板和多个外壁清理刷旋转,多个外壁清理刷将合成坩埚外壁进行清理。 | ||
搜索关键词: | 半导体 合成 | ||
【主权项】:
暂无信息
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