[实用新型]一种图形化外延生长的设备结构

摘要

本实用新型涉及图形化功能层制备技术领域，且公开了一种图形化外延生长的设备结构，包括真空腔室，所述真空腔室一端设置有供气管，且所述供气管与所述真空腔室固定连接，所述供气管远离所述真空腔室一端设置有真空泵，且所述真空泵与所述供气管固定连接。该一种图形化外延生长的设备结构，通过设置真空腔室，将晶圆置于真空腔室，有利于功能膜层的均匀性，同时极大的减少污染提高成品率，激光发生器通过激光窗口向真空腔室内部照射，激光窗口允许激光通过并照射在晶圆的表面，激光发生器产生的激光通过光学聚焦系统形成纳米尺度光斑，使得装置与3D打印机相比可以打印纳米级图案，可应用在集成电路制备。