[实用新型]一种高产能槽式硅片清洗制绒设备有效
申请号: | 202020541561.3 | 申请日: | 2020-04-13 |
公开(公告)号: | CN212011004U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 上官泉元 | 申请(专利权)人: | 常州比太科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236;H01L21/673;C30B33/10 |
代理公司: | 北京集智东方知识产权代理有限公司 11578 | 代理人: | 吴倩 |
地址: | 213164 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种高产能槽式硅片清洗制绒设备,具有多个依次排列的工艺槽及对应工艺槽的机械臂;工艺槽的宽度设置为对应一个花篮的宽度,长度设置为对应三个花篮的长度;机械臂包括通过滑轨分别设置在机械臂两端的主动支架和从动支架,主动支架由驱动机构驱动升降;主动支架和从动支架之间通过悬梁连接以实现从动支架与主动支架的同步升降;悬梁上设置三个挂钩分别对应每个工艺槽内三个花篮的位置。上述结构在保持高产能的情况下可以有效降低设备整体长度,且工艺槽的塑料槽体变窄后更容易承受高温变形而使设备更加可靠,新型机械臂结构运行更加可靠平稳且运动速度可以有效增加以增加相对产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 产能 硅片 清洗 设备 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的