[实用新型]一种用于激光直写曝光机的曝光平台

摘要

本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机的曝光平台，包括运动及负载底板、支撑机构、滑动机构和驱动机构。运动及负载底板上安装有光头。支撑机构包括底座、立柱、前导轨基座和后导轨基座。滑动机构包括前导轨组件和后导轨组件。前导轨组件包括前导轨和与前导轨滑动配合的前滑块。后导轨组件包括后导轨和与后导轨滑动配合的后滑块。运动及负载底板位于滑动机构上方，且运动及负载底板的前后两端的底部分别与前滑块、后滑块固定相连。驱动机构包括安装在后导轨基座顶部且用于驱动运动及负载底板沿导轨滑动的电机。本实用新型能够提高激光直写曝光机运动平台和光头的稳定性，进而提高产品良率。