[实用新型]一种用于真空等离子体设备的匀气环有效
| 申请号： | 202020567761.6 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN212010899U | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 彭帆;漆宏俊;夏欢 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200240 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于真空等离子体设备的匀气环，包括等离子体区域、气体喷淋盘、上腔体、下腔体和下电极，所述气体喷淋盘和下电极之间为等离子体区域，等离子体区域的一侧设有上腔体和下腔体，下电极和下腔体之间设有排气环，其特征在于，所述下腔体与排气环之间设有排气通道，本实用新型提出的排气环与下电极之间配合形成的排气通道可以具有更大的深宽比（大于15：1至40:1），而且排气通道入口与上下电极之间形成的电场方形垂直，具有更好的等离子体隔离效果，最终形成更高的等离子体浓度，实现更快的样品表面等离子处理或刻蚀速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 等离子体 设备 匀气环 | ||
【主权项】：
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