[实用新型]一种具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉淀设备有效
申请号: | 202020581293.8 | 申请日: | 2020-04-18 |
公开(公告)号: | CN212388113U | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 李蜂 | 申请(专利权)人: | 吕梁学院 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/44 |
代理公司: | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 陈月婷 |
地址: | 033000 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉淀设备,包括主设备、子设备、控制键面板和防护机构,所述主设备和子设备前表面均设置有控制键面板,所述控制键面板可拆卸式安装在主设备或者子设备侧面且可对控制键面板防护,所述防护机构包括透明板、右固定板、左固定板和限位组件,所述右固定板和左固定板对称安装在主设备侧面,且通过螺钉固定,所述右固定板和左固定板前端伸出主设备露在外侧,且端部设置有矩形缺口;本实用新型通过设置有防护机构,既不影响控制键面板的正常使用,又可在不使用时起到防护作用,避免旁人误碰控制键造成沉淀设备工作出现问题,减少影响化学气相沉淀设备工作的因素,且机构方便安装和拆卸。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 个子 反应器 结构 金属 有机化学 沉淀 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的